Mikroelektronik & Halbleiter-Abwasserbehandlung - Nanostone Keramikmembranen
Anwendungen
Mikroelektronik / Halbleiter-Abwasserbehandlung
Fortschrittliche Keramikmembranfiltration für Mikroelektronik / Halbleiter-Abwasserbehandlung
Halbleiterfabriken stehen aufgrund ihrer Umweltbelastung unter zunehmender Beobachtung, insbesondere da die Nachfrage nach Chipdesign-Innovationen steigt.
Mit der Weiterentwicklung der Halbleitertechnologien und der Verkleinerung der Strukturgrößen auf Chips sind mehr Verarbeitungsschritte oder „Maskenschichten“ erforderlich. Jede zusätzliche Maskenschicht erhöht den Wasserbedarf und vergrößert den ökologischen Fußabdruck erheblich.
Halbleiterfabriken befinden sich oft in Regionen, in denen sie mit Kommunen um Frischwasser konkurrieren und häufig Leitungswasser verwenden, das weiter zu Ultrapure-Wasser (UPW) aufbereitet wird. Diese steigende Nachfrage belastet die bestehenden Frischwasserressourcen erheblich und kann den Betrieb gefährden, da die Branche schnell wächst, um die steigende Produktnachfrage zu erfüllen. Daher gewinnt eine effektive und effiziente Abwasserbehandlung zur Wiederverwendung zunehmend an Bedeutung, um eine nachhaltige Wasserbewirtschaftung zu gewährleisten und das Wachstum sowie die Innovation der Branche zu unterstützen.
Halbleiterabwässer enthalten hohe Konzentrationen an Feststoffen und abrasiven Partikeln, die erhebliche Herausforderungen für die Behandlung darstellen:
- Schleif- und Schneidabwasser: Enthält abrasive Partikel, die herkömmliche Membranen beschädigen können.
- CMP (Chemical Mechanical Planarization) Abwasser: Enthält feine Partikel und erfordert Koagulation sowie pH-Anpassung vor der Filtration.
- HF (Flusssäure) Abwasser-Wiederverwendung: Benötigt eine robuste Behandlung, um eine Wiederverwendung zu ermöglichen und die Umweltbelastung zu reduzieren.
Unsere Technologie bewältigt diese Herausforderungen durch eine effektive Vorbehandlung dieser Abwasserströme und gewährleistet die Einhaltung strenger Umweltvorschriften sowie die Unterstützung von Wasserwiederverwendungsinitiativen. Das Nanostone CUF|Shield™ (CM-151) Keramik-Ultrafiltrationsmembransystem bietet eine kompakte Bauweise, hohe Abriebfestigkeit, effiziente Rückspülfähigkeit und eine hohe Feststofftoleranz, wodurch es ideal für die Behandlung verschiedener Abwasserströme in Halbleiterfabriken ist.
Warum Nanostone für Mikroelektronik / Halbleiter-Abwasserbehandlung
Ansatz & Vorteile
Unsere Keramik-Ultrafiltrationsmembranen verbessern die Behandlungseffizienz durch den Einsatz fortschrittlicher Filtrationstechnologie, die gezielt hohe Trübung und abrasive Partikel adressiert. Unsere Systeme optimieren nicht nur die Wasserqualität, sondern unterstützen auch nachhaltige Wiederverwendungsinitiativen und erfüllen strenge Umweltvorschriften.
- Nanostone-Lösungen:
- Schleif- und Schneidabwasser: Direkte Filtration mit der CUF|Shield™ (CM-151)-Membran ohne Vorbehandlung.
- CMP-Abwasser: Koagulation und pH-Anpassung, gefolgt von Filtration mit der CUF|Shield™ (CM-151)-Membran.
- Einzigartige Merkmale:
- Optimierte Behandlung: Vereinfachung des Prozesses, Reduzierung der Komplexität und Betriebskosten.
- Hohe Trübungstoleranz: Kann Zulaufwasser mit einer Trübung von bis zu 10.000 NTU verarbeiten.
- Abriebfestigkeit: Gewährleistet Langlebigkeit und Zuverlässigkeit der Membran.
- Nanostone-Lösungen bieten mehrere Vorteile:
- Verbesserte Wasserqualität: Stellt hochwertiges Abwasser für die Wiederverwendung sicher.
- Höhere Effizienz: Vereinfachung des Prozesses zur Reduzierung von Ausfallzeiten und Wartungsaufwand.
- Kompakte Bauweise: Passt in platzbeschränkte Anlagen.
- Kosteneffizienz: Senkt Betriebs- und Investitionskosten.
- Regulatorische Konformität: Unterstützt die Einhaltung strenger Umweltvorschriften und ermöglicht hohe Wiederverwendungsraten (>90%).
Nachgewiesener Erfolg
Nanostones Einfluss auf Mikroelektronik
und Halbleiter-Abwasserbehandlung
Nordamerikanische Halbleiterfabrik Fallstudie
- Herausforderungsübersicht:
Die Anlage musste ihre HF-Abwasserbehandlung modernisieren, um Compliance-Anforderungen zu erfüllen und eine Wiederverwendung zu ermöglichen. - Nanostone-Lösung:
Implementierung desCUF|Shield™ (CM-151) UF-Membransystems, das die Wiederverwendung von Abwasser ermöglicht und den Frischwasserbedarf reduziert. - Erzielte Vorteile:
- 800.000 $ jährliche Einsparungen durch reduzierte Behandlungskosten, Abwassergebühren und Frischwasserbeschaffung.
- Zuverlässiger Betrieb mit einer Rückgewinnungsrate von 95 % und minimalem Wartungsaufwand.
- Erhöhte Systemstabilität und Einhaltung der Umweltvorschriften.
Für weitere Details besuchen Sie die Projektseite der nordamerikanischen Halbleiterfabrik.
Fallstudie: Erweiterte Großserienmontage und Testfabrik in Asien
- Herausforderungsübersicht:Die Anlage hatte mit sinkender Behandlungskapazität und steigenden Kosten aufgrund der Verschmutzung von polymeren UF-Membranen zu kämpfen.
- Nanostone-Lösung:Ersetzung der polymeren UF-Systeme durch CUF|Shield™ (CM-151)-Membranen zur Verbesserung der Behandlungskapazität und Betriebsstabilität.
- Erzielte Vorteile:
- Eliminierung der Notwendigkeit einer externen Abwasserbehandlung.
- Erzielte eine Rückgewinnungsrate von über 95 %.
- Reduzierter Wartungsaufwand und verlängerte CIP-Zyklen auf über drei Monate.
- Langlebigkeit/Robustheit der Membran.
Sandisk SH Fallstudie
- Herausforderungsübersicht:Die Anlage benötigte eine verbesserte Behandlungsmethode für ihr hochtrübes Mischabwasser.
- Nanostone-Lösung:Ersetzung herkömmlicher Behandlungssysteme durch CUF|Shield™ (CM-151) Keramik-UF-Membranen.
- Erzielte Vorteile:
- Erzielte eine gleichbleibende Wasserqualität, die für die RO-Behandlung geeignet ist.
- Reduzierte Betriebskosten und Platzbedarf.
- Verbesserte Wasserwiedergewinnungsraten von 60 % auf über 80 %.
Häufige Fragen
Über unsere Mikroelektronik- / Halbleiteranwendung
Wie unterstützt Nanostone die Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie?
Wie unterstützt Nanostone die Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie?
Nanostone unterstützt die Halbleiterindustrie mit fortschrittlicher Keramikmembrantechnologie, die hochfeste Abwässer effizient behandelt und die Wasserwiederverwendung fördert. Die kompakten, robusten Systeme bewältigen Prozesse wie Schleifen und CMP und gewährleisten hochwertiges Abwasser für Ultrapure-Wasser, während Vorbehandlungsschritte und Platzbedarf reduziert werden. Diese Technologie verbessert die Nachhaltigkeit, senkt Kosten und hilft Anlagen, strenge Umweltvorschriften einzuhalten.
Welche Verunreinigungen kann die Nanostone-Technologie in Halbleiterabwässern entfernen?
Welche Verunreinigungen kann die Nanostone-Technologie in Halbleiterabwässern entfernen?
Die Nanostone-Technologie entfernt effektiv eine Vielzahl von Verunreinigungen aus Halbleiterabwässern, darunter abrasive Partikel aus Schleif- und Schneidprozessen, feine Partikel aus chemisch-mechanischer Planarisierung (CMP) sowie andere herausfordernde Verunreinigungen. Diese Keramikmembranen sind speziell für hohe Trübung und abrasive Feststoffe ausgelegt und gewährleisten eine konstante Abwasserqualität, die für Ultrapure-Wassersysteme geeignet ist. Das System bietet zuverlässige Leistung über lange Zeiträume, selbst in anspruchsvollen Abwasserumgebungen.
Sweetspot-Anwendungen
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Nanostones Keramikmembranen verbessern die Leistung von RO-Systemen, indem sie den Vorbehandlungsprozess optimieren. Sie entfernen effizient suspendierte Feststoffe und Schadstoffe, verbessern die Wasserqualität und reduzieren das Fouling-Risiko. Diese Membranen sind ideal für kommunale und industrielle Anwendungen und steigern die Effizienz, Nachhaltigkeit und Kosteneffektivität der Wasseraufbereitung.